因恐怕就是林苯堅發明的‘浸潤式微影技術’！

依照摩爾定律，每經過18至24個月的時間，在成本保持不變的情況下，晶片上的電晶體數量便會翻倍，效能亦會實現飛躍式的提升。

然而，這一規律在20世紀90年代卻遇到了前所未有的挑戰。

當時，儘管櫻花國和鷹國的光刻機企業眾多，但它們卻共同陷入了一片困境。

原因就在於光刻機的光源波長始終無法突破193nm的瓶頸，無法再進一步縮短。

在半導體制造的領域裡，光源波長的縮短直接關聯著晶片製程的先進性。

櫻花國的呢康公司主張採用157奈米F2鐳射技術，而由鷹國主導的EUV聯盟則力推使用極紫外光技術，其光源波長僅十幾奈米。

然而，當時的技術瓶頸使得這兩種先進方案都難以實現。

因此，全球半導體行業在這一時期彷彿陷入了停滯不前的狀態。

就在這個關鍵時刻，林苯堅走進了人們的視線。

在寶積電工作的他，腦海中靈光乍現，提出了一個顛覆性的解決方案。

林苯堅建議，在鏡頭與矽片之間引入一層水，讓光線經過水的折射，將波長降至132奈米。

如此，投射到矽片的圖案解析度將更為清晰，晶片的密度也可更上一層樓。

他透過不懈努力和反覆實驗，證明了這個方案的可行性。

於是，滿懷信心的林苯堅帶著這個方案走向了櫻花國和鷹國知名半導體公司的洽談桌。

然而，對於林苯堅提出的顛覆性方案，櫻花國和鷹國的光刻機巨頭企業卻持謹慎態度。

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他們認為在鏡頭與矽片間加水會產生氣泡並帶來汙染風險，這可能會破壞晶片生產中嚴苛的無塵環境，大大降低產品的良品率。

在他們看來，只有透過深入研究光源技術、降低光源波長才是正道。

面對拒絕，林苯堅像一位執著的工匠，不斷雕琢改良自己的方案，一次又一次地親自上門，展示他的技術實力。

然而，這些努力並未贏得櫻花國和鷹國知名半導體公司的青睞。

面對這樣的困境，林本堅不得不尋找新的合作伙伴。

他瞄準了當時尚未嶄露頭角的ASML公司。

那時的ASML公司規模很小，就像一間小型作坊，整個公司僅有幾十名員工。

在規模和影響力上，ASML遠遠無法與呢康、佳螚等光刻機巨頭相提並論。

然而，正是這家看似不起眼的公司，卻獨具慧眼地認可了林本堅的方案。

他們看到了林本堅的潛力，決定投入資金支援他的研究。

林本堅不負眾望，在ASML公司的鼎力支援下，僅耗時一年，便成功研發出了浸潤式光刻機，其精度達到了前所未有的高度——132nm！

這一成就如同夜空中璀璨的煙花，瞬間點亮了ASML的前程。

一夜之間，ASML從默默無聞的小公司一躍成為行業的翹楚，打破了呢康、佳螚的壟斷格局。

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